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标题: 光刻胶的国内外发展状况简介 [打印本页]

作者: filtrasolution8 时间: 2020-12-29 18:28
标题: 光刻胶的国内外发展状况简介

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2020-12-29 环球过滤分离技术网 filtrasulotion8

电子电器行业飞速发展，促使集成电路不断向高集成和高速

化发展，对光刻技术的要求越来越高。国际上实现应用的最先进

的光刻技术为 EUV 光刻，荷兰阿斯麦尔公司拥有最先进的 EUV

光刻机，可实现 5 nm 光刻。国产最先进的光刻机为上海微电子生

产的光刻机，可实现 90 nm 光刻。供应光刻胶的生产企业主要集

中在美国、日本、欧洲以及韩国等国家，其中日本占有最大的光

刻胶市场份额，生产企业有日本富士胶片、日立化成、东京应化、

三菱化学、旭化成、住友电木和住友化学等。国内光刻胶的研发

生产水平与国际相差较大，能实现生产的企业主要有北京科华、

苏州瑞红、南大光电、浙江永太，光刻胶自给率仅 10 %。国产光

刻胶主要集中在技术含量相对较低的 PCB 领域，例如 6 英寸硅片

的 g/i 线光刻胶、 8 英寸硅片的 KrF 光刻胶，自给率分别达到 20 %

和 5 %左右，而 12 寸硅片的 ArF 光刻胶国内企业还不能实现大规

模生产。随着国家对新材料发展的支持力度不断加大，近年来国

内对光刻胶的研究取得了较大进展。例如，北京科华开发出 248

nm 光刻胶，并且通过了部分客户的认证，其中包括中芯国际，南

大光电的 19 3nm ArF 光刻胶研发工作正在顺利推进，计划于 2020

年完成研发和产业化。

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