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标题: GORE®应用半导体行业的过滤器 [打印本页]
作者: guolvfenlitech6 时间: 2021-1-4 17:15
标题: GORE®应用半导体行业的过滤器
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2021-01 环球过滤分离技术网 guolvfenlitech6
埃尔克顿，马里兰州– W. L. 戈尔 & 联营公司 （Gore） 宣布，随着戈尔（GORE）的半导体应用®，过滤技术有了重大进步。这个新的20纳米至100nm级滤芯系列用于化学品、稀释化学品和超纯水，用于湿加工工具中采用新型高流量ePTFE（扩展聚四氟乙烯）过滤介质，可将滴漏保持率从100nm升级到30nm，从而实现更清洁的再循环浴池，缩短加工时间，并显著节省拥有成本。
新的墨盒过滤器将于 2009 年 7 月 14 日至 16 日在旧金山的 SEMICON West 推出，其流量是下一款一流过滤器的三倍，性能得到改善，在保留方面无牺牲。GORE ®过滤器提供滴位式更换，可提高保持性能、减少颗粒计数、降低工作差压、缩短加工时间，并加快洗浴周转率。过滤器还允许保持甚至增加流速，只有 1/3 的滤波器数量以前使用。结果是，通常与流程升级相关的资本成本显著降低。
戈尔技术已应用于全球性能最好的半导体、电子、超纯水、高纯度化学加工和制药应用的过滤器领域。
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