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作者: guolvfenlitech8 时间: 2021-1-8 11:31
标题: 超净高纯试剂的国际标准
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2021-01-08 环球过滤分离技术网 guolvfenlitech8

超净高纯试剂的国际标准

国际半导体设备与材料组织(SEMI)于1975年成立了SEMI化学试剂标准委员会，专门制定了超净高纯试剂的国际标准，将其应用范围分为4个等级：

1.SEMI-C1标准，适用于＞1.2um IC制程；
2.SEMI-C7标准，适用于0.8~1.2um IC制程
3.SEMI-C8标准，适用于0.2~0.6um IC制程
4.SEMI-C12标准，适用于0.09~0.2um IC制程
用于湿法清洗的超净高纯试剂主要用于：1.基片涂胶前的清洗；2.光刻过程中的蚀刻及最终的去胶；3.硅片本身制作过程中的清洗。

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湿法蚀刻是指借助于化学反应从硅片的表面去除固体物质的过程。湿法蚀刻包括1.绝缘膜蚀刻；2.半导体膜蚀刻 3.导体膜蚀刻4. 有机材料蚀刻。湿法蚀刻常用的试剂有HF,NH4F,HNO3,H3PO4,醋酸等。

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