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标题: 国内半导体光刻胶产业链重点公司情况 [打印本页]

作者: guolvfenlitech6 时间: 2021-1-25 07:26
标题: 国内半导体光刻胶产业链重点公司情况
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2021-01-25 环球过滤分离技术网 guolvfenlitech6

晶瑞股份：子公司苏州瑞红承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，i线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，KrF光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25～0.13µm的技术要求，建成了中试示范线。1月19日，晶瑞股份购买的型号为ASML XT 1900Gi ArF浸入式光刻机成功进厂，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。

上海新阳：主攻KrF和干法ArF光刻胶，已经进入产能建设阶段。根据2020年11月3日定增预案，公司拟定增募资不超过14.50亿元，其中8.15亿元拟投资于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目，主要目标为实现ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化，力争于2023年前实现上述产品的产业化，填补国内空白。1月5日，公司公告称，自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，根据项目进度，计划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。

北京科华(未上市)：产品类型覆盖KrF(248nm)、G/I 线(含宽谱)， KrF(248nm)光刻胶已经通过包括中芯国际在内的部分客户认证，并实现批量供货，G线、i线光刻胶已实现量产供货。

南大光电：2017年承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的ArF (193nm)光刻胶材料的研发与产业化项目。2020年12月17日，宣布自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户使用认证，可以用于90nm~14nm技术节点的集成电路制造工艺，根据规划，南大光电拟在宁波经济开发区建设年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的产线，公司购买安装的光刻机也是ASML的1900型号浸没式光刻机。

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