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标题: 半导体工艺化学品龙头企业简介 [打印本页]

作者: guolvfenlitech8 时间: 2021-3-18 09:51
标题: 半导体工艺化学品龙头企业简介
本帖最后由 guolvfenlitech8 于 2021-3-18 09:52 编辑

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2021-03-18 环球过滤分离技术网 guolvfenlitech8
电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级，LSI（大规模集成电路）级，VLSI（超大规模集成电路）级和ULSI（特大规模集成电路）级。

电子气体

代表企业：空气化工（美国）、林德集团（德国）、大阳日酸（日本）

半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气，高纯气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于半导体生产过程中的外延，掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级，LSI（大规模集成电路）级，VLSI（超大规模集成电路）级和ULSI（特大规模集成电路）级。

超大规模集成电路、平面显示器件、化合物半导体、太阳能电池等都少不了电子气体，它们被广泛应用在薄膜、刻蚀、掺杂、沉积、扩散等工艺中。在目前最先进的超大规模集成电路工厂的晶圆片制造过程中，全部工艺步骤超过450道，其中大约要使用50种不同种类的电子气体。
光刻胶

代表企业：JSR（日本）、信越华学（日本）、陶氏（美国）

光刻胶是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。

光刻胶一般由聚合物骨架、光致酸产生剂或光敏化合物、溶剂，以及显影保护基团、刻蚀保护基团等其他辅助成分组成。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。

湿化学品

代表企业：巴斯夫（德国）、霍尼韦尔（美国）、住友化学（日本）

湿化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料。在显示面板、半导体、太阳能电池等制作过程中，湿化学品是不可缺少的关键性材料之一。

湿电子化学品一般可划分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品，通用湿电子化学品指在半导体、显示面板、太阳能电池等制造工艺中被大量使用的液体化学品，一般为单成份、单功能化学品，例如氢氟酸、硫酸、氢氧化钠、氢氧化钾等。功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品，例如显影液、剥离液、蚀刻液、稀释液、清洗液等。

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