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标题: 光刻胶色浆制备流程简介 [打印本页]

作者: guolvfenlitech1 时间: 2023-3-2 16:52
标题: 光刻胶色浆制备流程简介
本帖最后由 guolvfenlitech1 于 2023-3-2 16:53 编辑

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2023-03-02 环球过滤分离技术网 guolvfenlitech1

光刻胶色浆的制备工艺，主要是涉及色浆配方（颜料、分散剂、溶剂等）混合，然后经过砂(珠)磨机研磨分散、高压微射流均质分散得到一定粒度分散的浆料，而后再通过滤芯对浆料进行除杂（去除大颗粒，金属离子等污染物）。

在色浆制备中的难点是色浆的团聚现象，这既和配方的稳定性有关，也和制备工艺机械能是否适中有关：过小的机械能不足以解开团聚；而过大的机械能则容易对粒子造成二次损坏，局部温度过高，降低稳定性；此外，制备工艺对大颗粒的去除效果会直接影响成品效果。常规制备的色浆平均粒径在20nm~100nm左右。色浆的稳定性不仅是对制备工艺优化至关重要，更是直接影响成品色浆的存储和使用。

通过PSS的Nicomp粒度分析仪测试平均粒径、AccuSizer颗粒计数器测试过大颗粒浓度、Lum稳定性分析仪快速筛选光刻胶用色浆配方稳定性。

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图1 光刻胶用色浆均一性解决方案

目前部分低端光刻胶已实现国产化，但高端光刻胶仍依赖进口。开发光刻胶遇到的一大难题是色浆这一原材料，至今依赖日本，其核心技术至今被日本企业所垄断。光刻胶用色浆的粒径大小、粒径分布、均一性等因素对光刻胶性能以及后续工艺起着重要作用。在对光刻胶进行考察时，主要评估其平均粒径大小，大颗粒浓度、稳定性等指标。

HM&M珠磨机

常见分散方法的球磨法或砂磨机，在分散时物料、磨珠与机体之间的撞击会对色浆中的颜料造成磨损，磨损的材料进入浆液中会变成难以除去的杂质，这对浆料的纯度产生不利的影响，此外，机械力过大时局部升温过快，也会导致物料的不稳定，影响后续的涂覆工艺。日本HM&M珠磨机的ADV机型，特殊设计的转子，可对高粘度的浆料（高达2000mPas）的进行纳米级和微米级分散，同时，也能以更小的粒子损伤对浆料进行分散，获得粒子原有特性无损的产品。磨珠磨损少，能减少污染量。结构设计上，易于更换磨珠，拆卸和清洗也十分方便。

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