颇尔微电子 — 专注过滤75年，为芯片制造保驾护航

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2023-09-06.        环球过滤分离技术网         guolvfenlitech6



芯片制造，杂质和污染物？NO！

当今新型芯片设计，可实现更快的通讯、更大的存储容量以及更复杂的算法逻辑。而芯片制造过程中，对于污染物的存在极为敏感，即便是存在极少的分子杂质或颗粒，也会使芯片的品质大打折扣。水分和颗粒等杂质更会直接影响到昂贵的芯片生产设备的性能，造成计划外维护操作频次增加、设备表面锈蚀，显著降低最终产品的质量和性能。

选择专业、可靠的过滤方案至关重要
优质的过滤解决方案，可以有效延长生产过程中化学品的使用时间，延长设备使用寿命，减少生产缺陷，确保整个生产工艺流程的稳定，从而全方位提高良率、降低生产成本。



颇尔公司（PALL CORPORATION）专注过滤技术75年，积累了强大的科研能力、丰富的制造经验和工艺知识，为全球芯片生产制造产业，提供高精度过滤器解决方案。帮助全方位改善芯片制造的关键工艺，适用于工艺气体、研磨液、光刻胶、湿式蚀刻化学品等各类工艺消耗品的过滤。无论是用于原材料工艺还是终端涂层工艺，均可满足芯片制造商以及原材料制造商在各个生产环节中的污染物去除需求。

图：颇尔公司拥有完整的芯片制造过滤解决方案，可满足每一个工艺应用的需求。

光刻

光刻是半导体行业的关键技术驱动力，几项关键的行业技术变革增加了光刻工艺各方面污染控制的负担，包括 DUV 光刻胶，顶部和底部抗反射涂层，浸没式光刻的应用，以及涂层变薄的趋势。每个步骤都可能在晶圆表面引入有害颗粒污染、微气泡空隙缺陷和金属污染。

光刻胶制造商使用的粗滤过滤器和终端用户使用的终端分配过滤器，均可防止非预期颗粒在半导体芯片制造过程中沉积到晶圆表面。由于出色的产品设计，颇尔过滤器可减少启动过程中化学品的使用量，并将导致晶圆表面缺陷的气泡形成降至极低，利用大表面积和先进的滤膜设计产生低压差，显著提高凝胶滤除效率并减少微气泡形成。

化学品

控制流体发生污染的话，会导致设备关机，严重影响生产效率，因此污染控制是半导体器件制造中最重要的问题之一。正确的过滤器使用可将流体污染物降至最低，避免关键零件遭到破坏，确保机台以峰值效率进行工作。

凭借在材料科学领域的数十年技术积累，颇尔公司已生产出PTFE、聚芳砜、尼龙、PVDF、聚乙烯和聚砜等材料的过滤器，满足各种流体的过滤和纯化需求，包括化学品、气体、水、CMP浆料和光阻材料等。

CMP

缺陷是CMP工程师要处理的最重要的问题之一。一般情况下，浆料过滤器位于半导体抛光系统内3个位置：1）浆料再循环/全局回路中，2）使用点处（POU），其中囊式过滤器安装在抛光工具附近，以及3）从浆料供应商手提包装/桶到日用储罐。

通过控制浆料颗粒尺寸和浓度，颇尔CMP过滤器可将浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒（LPC）密度控制在规定的工艺参数范围内，有效去除较大的研磨颗粒，并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成，以更好的滤除效果和更稳定的性能，实现许多不同半导体工艺性能的最大化。

工艺气体过滤和纯化

由于先进设备制造的工艺

要求，各类高纯气体的使用量急剧上升。为了达到和保持这些气体所需的高纯度，合适的过滤器选择同样至关重要。而颗粒去除等级并不是选择各种过滤器产品的唯一标准，还必须考虑过滤器排出有害杂质和脱落颗粒的能力。

合适的材料选择、清洁标准、外壳表面准备，以及和专业制造工艺对过滤器品质而言缺一不可。所有的颇尔气体过滤器组件，都装在特质的双层包装袋中，用高纯氮气净化，防止湿气和氧气污染，并有外镀铝聚酯薄膜蒸汽屏障袋，提供多重清洁保证。

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