光刻胶的国内外发展状况简介

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2020-12-29 环球过滤分离技术网   filtrasulotion8

         电子电器行业飞速发展， 促使集成电路不断向高集成和高速

化发展， 对光刻技术的要求越来越高。 国际上实现应用的最先进

的光刻技术为 EUV 光刻， 荷兰阿斯麦尔公司拥有最先进的 EUV

光刻机， 可实现 5 nm 光刻。 国产最先进的光刻机为上海微电子生

产的光刻机， 可实现 90 nm 光刻。 供应光刻胶的生产企业主要集

中在美国、 日本、 欧洲以及韩国等国家， 其中日本占有最大的光

刻胶市场份额， 生产企业有日本富士胶片、 日立化成、 东京应化、

三菱化学、 旭化成、 住友电木和住友化学等。 国内光刻胶的研发

生产水平与国际相差较大， 能实现生产的企业主要有北京科华、

苏州瑞红、 南大光电、 浙江永太， 光刻胶自给率仅 10 %。 国产光

刻胶主要集中在技术含量相对较低的 PCB 领域， 例如 6 英寸硅片

的 g/i 线光刻胶、 8 英寸硅片的 KrF 光刻胶， 自给率分别达到 20 %

和 5 %左右， 而 12 寸硅片的 ArF 光刻胶国内企业还不能实现大规

模生产。 随着国家对新材料发展的支持力度不断加大， 近年来国

内对光刻胶的研究取得了较大进展。 例如， 北京科华开发出 248

nm 光刻胶， 并且通过了部分客户的认证， 其中包括中芯国际， 南

大光电的 19 3nm ArF 光刻胶研发工作正在顺利推进， 计划于 2020

年完成研发和产业化。





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