2020-12-28 环球过滤分离技术网 filtrasolution1
光刻胶是光刻过程最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响,其主要作用,是在光刻过程中,起到防腐蚀的保护作用
目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等,市场集中度非常高,所占市场份额超过85%。
光刻胶市场需求逐年增加,2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元,而国内光刻胶需求量方面,2011年光刻胶需求量为3.51万吨,到2017年需求量为7.99万吨,年复合增长率达14.69%
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国内光刻胶需求量远大于本土产量,且差额逐年扩大。由于中国大陆光刻胶市场起步晚,目前技术水平相对落后,生产产能主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品,TFT-LCD、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能极少。 光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒最高
住友化学已经研制出适用于 ArF 浸入式光刻胶和 EUV 技术光刻胶,其中 EUV 技术的光刻胶应用于 32 纳米以下晶圆制造制程。 JSR 联合日本微电子研究中心共同成立的 EUV 光刻胶制备和认证中心,致力于实现 EUV 光刻胶材料的量产应用,预计 2020 年前实现批量供货应用于 7 纳米及以下的晶圆制程,其产品技术布局行业最前沿。 国内企业在缺乏经验、缺乏专业技术人才、缺失关键上游原材料和设备的条件下“摸着石头过河”,探索出了一条自主研发之路,光刻胶高端技术短期内尚难突破,还要很长的路要走
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