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发表于 2020-12-28 09:26:41 | 只看该作者 回帖奖励 |正序浏览 |阅读模式




2020-12-28   环球过滤分离技术网    filtrasolution1

          光刻胶是光刻过程最重要的耗材光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响其主要作用是在光刻过程中起到防腐蚀的保护作用

目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶JSR)、东京应化TOK)、住友化学信越化学美国罗门哈斯等市场集中度非常高所占市场份额超过85%

         光刻胶市场需求逐年增加,2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元,而国内光刻胶需求量方面,2011年光刻胶需求量为3.51万吨,到2017年需求量为7.99万吨,年复合增长率达14.69%



       国内光刻胶需求量远大于本土产量,且差额逐年扩大。由于中国大陆光刻胶市场起步晚,目前技术水平相对落后,生产产能主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品,TFT-LCD、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能极少。
光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒最高


住友化学已经研制出适用于 ArF 浸入式光刻胶和 EUV 技术光刻胶,其中 EUV 技术的光刻胶应用于 32 纳米以下晶圆制造制程。
JSR 联合日本微电子研究中心共同成立的 EUV 光刻胶制备和认证中心,致力于实现 EUV 光刻胶材料的量产应用,预计 2020 年前实现批量供货应用于 7 纳米及以下的晶圆制程,其产品技术布局行业最前沿。
国内企业在缺乏经验、缺乏专业技术人才、缺失关键上游原材料和设备的条件下“摸着石头过河”,探索出了一条自主研发之路,光刻胶高端技术短期内尚难突破,还要很长的路要走


来源于:网络整理,侵权告删 www.guolvfenlitech.com

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