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K-MAC膜厚多功能测量仪

信息编号 : 485 发布时间 : 2021-1-7 21:05 该信息长期有效 浏览 : 278
  • 信息类型 : 供应信息
  • 区域名称 : 上海市
  • 类别从属 : 微电子及半导体生产设备仪器 -
  • 付款方式 : 电汇
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信息详情

K-MAC膜厚多功能测量仪

技术指标:

测量方法: 非接触式

测量原理:反射计

类型:手动的

平台尺寸: 4" (可选6" )

活动范围:150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)

测量范围 :20nm-5um(根据膜的类型)

目镜倍率:20x 典型值 (可选10x、50x)

测量速度:1~2 sec./site

照明类型:12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer

尺寸:190 x 265 x 316 mm

重量:12Kg

探头类型:三目探头

可供选择:标准样品(K-MAC or KRISS or NIST)

应用领域:

半导体:Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe... 介质材料:SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,... 平板行业:(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide... 光学涂层:硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装与功能薄膜... 太阳能电池: Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..) 聚合物:PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk 其他:示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜...

一、KMAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列介绍:

KMAC超精密薄膜厚度测量仪及分析仪系列已广泛应用在韩国,日本和台湾等许多国家的半导体工程,绝缘体薄膜,和众多的LCD/PDP/ELD/OLED等平板显示设备相关的生产企业。从台式的实验室分析设备到大型在线测量设备,KMAC提供众多的型号和功能选择。卓越的设计和可靠性能使埃-纳米-微米级测量的精度和重复性大大提高的同时,测量速度也大大加快以满足在线式检测的要求。
系统构成:探头;显微镜,带样品平台及镜头;打印电缆及稳压电源 ;使用n,k数据或公式等三种类型的曲线拟合分析软件。
应用软件:实时测量;厚度及光学常数; 最高3层薄膜测量;测量结果制图;X-Y-Z移动控制;CCD影像显示;自定义测量过程;打印预览模式。

二、KMAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列应用领域:

半导体
Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...
绝缘材料
SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...
聚合物
PVA, PET, PP, PR ...
LCD
a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film
光学镀层
Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
可纪录材料
Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...
其它
Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors

三、KMAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列比较方法:

功能
光谱反射法
椭偏仪
表面轮廓描绘
X射线荧光分析
非破坏性
微观区域
识别图案
可能
不可能
不可能
不可能
测量厚度
Thick(μ m)
可能
有误差
可以
可以
Thin(?)
可能
可能
可能
不可能
测量速度
>0.5秒
>~分钟
>~10分钟
>~20分钟
处理能力
很低
很低
金属膜
特定金属
N, K 值测量
可以
样品制备
容易
容易
困难
困难
方便性
很好
较差
较差



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