K-MAC膜厚多功能测量仪
技术指标: | 测量方法: 非接触式 测量原理:反射计 类型:手动的 平台尺寸: 4" (可选6" ) 活动范围:150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离) 测量范围 :20nm-5um(根据膜的类型) 目镜倍率:20x 典型值 (可选10x、50x) 测量速度:1~2 sec./site 照明类型:12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer 尺寸:190 x 265 x 316 mm 重量:12Kg 探头类型:三目探头 可供选择:标准样品(K-MAC or KRISS or NIST) |
应用领域: | 半导体:Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe... 介质材料:SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,... 平板行业:(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide... 光学涂层:硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装与功能薄膜... 太阳能电池: Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..) 聚合物:PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk 其他:示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜... |
半导体 | Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ... |
绝缘材料 | SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ... |
聚合物 | PVA, PET, PP, PR ... |
LCD | a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film |
光学镀层 | Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ... |
可纪录材料 | Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ... |
其它 | Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors |
功能 | 光谱反射法 | 椭偏仪 | 表面轮廓描绘 | X射线荧光分析 | |
非破坏性 | 是 | 是 | 否 | 是 | |
微观区域 | 是 | 否 | 否 | 否 | |
识别图案 | 可能 | 不可能 | 不可能 | 不可能 | |
测量厚度 | Thick(μ m) | 可能 | 有误差 | 可以 | 可以 |
Thin(?) | 可能 | 可能 | 可能 | 不可能 | |
测量速度 | >0.5秒 | >~分钟 | >~10分钟 | >~20分钟 | |
处理能力 | 高 | 低 | 很低 | 很低 | |
金属膜 | 否 | 否 | 是 | 特定金属 | |
N, K 值测量 | 可以 | 是 | 否 | 否 | |
样品制备 | 容易 | 容易 | 困难 | 困难 | |
方便性 | 很好 | 好 | 较差 | 较差 |
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