K-MAC超精密光学薄膜厚度测试仪简介

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2021-01-11   环球过滤分离技术网     guolvfenlitech7

一、K-MAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列介绍：KMAC超精密薄膜厚度测量仪及分析仪系列已广泛应用在韩国,日本和台湾等许多国家的半导体工程,绝缘体薄膜,和众多的LCD/PDP/ELD/OLED等平板显示设备相关的生产企业。从台式的实验室分析设备到大型在线测量设备,K-MAC提供众多的型号和功能选择。卓越的设计和可靠性能使埃-纳米-微米级测量的精度和重复性大大提高的同时，测量速度也大大加快以满足在线式检测的要求。
系统构成：探头；显微镜,带样品平台及镜头；打印电缆及稳压电源 ；使用n,k数据或公式等三种类型的曲线拟合分析软件。
应用软件：实时测量；厚度及光学常数； 最高3层薄膜测量；测量结果制图；X-Y-Z移动控制；CCD影像显示；自定义测量过程；打印预览模式。
二、K-MAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列应用领域：

半导体	Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...
绝缘材料	SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...
聚合物	PVA, PET, PP, PR ...
LCD	a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film
光学镀层	Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
可纪录材料	Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...
其它	Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors

三、KMAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列比较方法：

功能		光谱反射法	椭偏仪	表面轮廓描绘	X射线荧光分析
非破坏性		是	是	否	是
微观区域		是	否	否	否
识别图案		可能	不可能	不可能	不可能
测量厚度	Thick(μ m)	可能	有误差	可以	可以
	Thin(?)	可能	可能	可能	不可能
测量速度		>0.5秒	>~分钟	>~10分钟	>~20分钟
处理能力		高	低	很低	很低
金属膜		否	否	是	特定金属
N, K 值测量		可以	是	否	否
样品制备		容易	容易	困难	困难
方便性		很好	好	较差	较差

四、K-MAC膜厚仪

技术指标:

测量方法： 非接触式 测量原理：反射计 类型：手动的 平台尺寸： 4" （可选6" ） 活动范围：150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离) 测量范围 ：20nm-5um(根据膜的类型) 目镜倍率：20x 典型值 （可选10x、50x） 测量速度：1~2 sec./site 照明类型：12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer 尺寸：190 x 265 x 316 mm 重量：12Kg 探头类型：三目探头 可供选择：标准样品(K-MAC or KRISS or NIST)

应用领域:

半导体：Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe... 介质材料：SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,... 平板行业：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide... 光学涂层：硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装与功能薄膜... 太阳能电池： Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..) 聚合物：PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk 其他：示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜...

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