超大规模集成电路关键材料之高纯化学品

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2021-03-12   环球过滤分离技术网   guolvfenlitech7

      高纯化学品是超大规模集成电路制作过程中关键性化工材料之一，主要用于芯片的湿法清洗和湿法蚀刻，它的纯度和洁净度对的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和强腐蚀性等特点。

        随着芯片存储容量的增大，存储器电池的氧化膜更薄，而试剂中所含的杂质、碱金属等）会溶进氧化膜之中，造成耐绝缘电压的下降试剂中所含的重金属等）若附着在硅晶片表面上，则会使P/N结耐电压降低。一般认为，产生断丝、短路等物理性故障的杂质分子大小为最小线宽的1/4，产生腐蚀或漏电等化学性故障的杂质分子大小为最小线宽的1/10，在化学品来料已满足超高纯标准的前提下，厂务化学品输送系统对保证供应至生产车间的原料品质、安全性等方面起着至关重要的作用.

一、化学品系统目的:


供应高纯度化学品1.以清洗芯片上之杂质、微粒子；

2.以蚀刻芯片图案；

3.以显影芯片图案；

3.以为化学气相沉积前置反应物；

4.以研磨芯片；


5.以清洗制程设备零配件；

二、种类与用途：


三、基本要求及功能：



操作安全：腐蚀性、毒性、耐压、防爆之考虑；

化学品零污染：与化学品接触材料部分需完全与化学品兼容；

微粒子控制：过滤器循环过滤功能；

满足最大需求流量：高浓度化学品如H2SO4、H3PO4；

自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化；

取样分析：系统、管路之粒子数、金属离子含量取样分析；

泄漏警报：侦测泄漏及紧急关闭系统(EMO)；

系统诊断：Pump、Filter 、Valve运转时数；

维修保养管路 Auto Purge/Flush 功能；

化学品用量统计功能；



四、应质量要求





注: 国际半导体设备与材料组织（SEMI）于1975年成立了SEMI化学试剂标准委员会，专门制定了超净高纯试剂的国际标准，将其按应用范围分为四个等级：

SEM-C1标准（适用于〉1.2um IC制作）

SEM-C7标准（适用于0.9-1.2um IC制作）

SEM-C8标准（适用于0.2-0.6um IC制作）

SEM-C12标准（适用于0.09-0.2um IC制作）


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