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2021-01-11 环球过滤分离技术网 guolvfenlitech7
一、K-MAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列介绍:KMAC超精密薄膜厚度测量仪及分析仪系列已广泛应用在韩国,日本和台湾等许多国家的半导体工程,绝缘体薄膜,和众多的LCD/PDP/ELD/OLED等平板显示设备相关的生产企业。从台式的实验室分析设备到大型在线测量设备,K-MAC提供众多的型号和功能选择。卓越的设计和可靠性能使埃-纳米-微米级测量的精度和重复性大大提高的同时,测量速度也大大加快以满足在线式检测的要求。
系统构成:探头;显微镜,带样品平台及镜头;打印电缆及稳压电源 ;使用n,k数据或公式等三种类型的曲线拟合分析软件。
应用软件:实时测量;厚度及光学常数; 最高3层薄膜测量;测量结果制图;X-Y-Z移动控制;CCD影像显示;自定义测量过程;打印预览模式。
二、K-MAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列应用领域:半导体 | Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ... | 绝缘材料 | SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ... | 聚合物 | PVA, PET, PP, PR ... | LCD | a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film | 光学镀层 | Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ... | 可纪录材料 | Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ... | 其它 | Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors |
三、KMAC超精密光学薄膜厚度测试仪系列比较方法:功能 | 光谱反射法 | 椭偏仪 | 表面轮廓描绘 | X射线荧光分析 | 非破坏性 | 是 | 是 | 否 | 是 | 微观区域 | 是 | 否 | 否 | 否 | 识别图案 | 可能 | 不可能 | 不可能 | 不可能 | 测量厚度 | Thick(μ m) | 可能 | 有误差 | 可以 | 可以 | Thin(?) | 可能 | 可能 | 可能 | 不可能 | 测量速度 | >0.5秒 | >~分钟 | >~10分钟 | >~20分钟 | 处理能力 | 高 | 低 | 很低 | 很低 | 金属膜 | 否 | 否 | 是 | 特定金属 | N, K 值测量 | 可以 | 是 | 否 | 否 | 样品制备 | 容易 | 容易 | 困难 | 困难 | 方便性 | 很好 | 好 | 较差 | 较差 |
四、K-MAC膜厚仪技术指标: | 测量方法: 非接触式 测量原理:反射计 类型:手动的 平台尺寸: 4" (可选6" ) 活动范围:150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离) 测量范围 :20nm-5um(根据膜的类型) 目镜倍率:20x 典型值 (可选10x、50x) 测量速度:1~2 sec./site 照明类型:12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer 尺寸:190 x 265 x 316 mm 重量:12Kg 探头类型:三目探头 可供选择:标准样品(K-MAC or KRISS or NIST) | 应用领域:
| 半导体:Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe... 介质材料:SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,... 平板行业:(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide... 光学涂层:硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装与功能薄膜... 太阳能电池: Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..) 聚合物:PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk 其他:示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜... |
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