半导体制程工艺中硅烷（SiH4）废气处理Local Scrubber

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2021-11-11 环球过滤分离技术网  guolvfenlitech1

半导体制程中硅烷（SiH4）是一种特种气体，在半导体工业中主要用于制作高纯多晶硅、通过CVD（化学气相沉积）工艺制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质等。SiH4在使用后会产生的废气，如果未经废气处理设备治理就直接高浓度对外排放，对人体和环境的恶劣影响是无法估量的。

硅烷作为一种提供硅组分的气体源，反应性和自燃性强烈，有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量，毒性很大，如果人体吸入硅烷就会强烈刺激呼吸器官，是一种高危险性的气体。

在半导体工厂中，因工作区域一般离中心废气处理系统远，为了避免在冗长的排气过程中引发非预期的气体泄漏，局部聚积等问题，硅烷（SiH4）废气从无尘室机台端(POU)反应被排放出后，即先由真空Pump抽至废气处理设备Local Scrubber做处理，待处理过后的气体再接续至厂务端做第二道处置。

吸附式废气处理设备Local Scrubber处理尾气废气的特点？

1. 以吸附桶完全处理设备尾气

2. 没有明火、无尘室内不产生火源

3. 节省能源、没有高耗能的需求

4. 不需要耗用水资源，没有废水处理问题

5. 确保尾气处理的安全性处理过程中没有危害

6. 妥善处理废料，不影响地球环境

综上，诸如硅烷（SiH4）此类危险性废气如若未及时处理，倘若其一旦有故障进而发生泄漏的问题，很可能会导致各种危害如火灾爆炸、人员中毒、环境破坏等伤害，严重时更可能造成人员伤亡或生产中断等巨大损失。同时，随着半导体工艺分工越发细微，应根据不同工艺衍生出来的气体特性，选择搭配合适的废气处理设备Local Scrubber，才能更有效的解决废气问题。

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