预计到2026年，全球CMP泥浆过滤器市场规模将达到74.8 百万...

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2022-06-19        环球过滤分离技术网        guolvfenlitech2




    化学机械平面化（CMP）是一种抛光工艺，用于制造半导体行业的晶圆。它需要使用抛光工具和抛光浆料。工具中的浆料会传送到晶圆表面，并且由于运输/处理问题，干燥以及浆料分配系统内的相互作用而可能包含大颗粒/团块（> 1μ）。这些大颗粒继而会增加在完成CMP工艺之后发现的半导体晶圆表面上的缺陷（划痕）水平。减少由大浆料颗粒引起的缺陷水平的解决方案之一是通过使用浆料过滤。对于这些应用，通常使用0.5至5微米的过滤器。
      CMP浆料过滤器旨在通过控制浆料颗粒的大小和浓度来最大化许多不同的半导体工艺性能。先进的CMP过滤技术可提高产量并减少缺陷。通过实施行业领先的过滤器设计，可以将浆料的粒度和大颗粒计数（LPC）的数量控制为指定的工艺参数。

   在2019年，全球CMP泥浆过滤器市场规模从2015年的43.1百万美元增加到53.5百万美元，到2026年将达到74.8 百万美元，在2020年至2026年之间的复合年增长率为4.85％。就数量而言，2019年全球CMP泥浆过滤器行业的销量为1069.8千台，预计到2026年将达到1733.1千台。

全球行业市场非常集中。在2019年的制造商中，Entegris，Pall和Cobetter占据了CMP浆料过滤器市场的前三名市场份额。其中，Entegris和Pall合计在2019年占据了全球收入市场份额的87.10％。

台湾是CMP泥浆过滤器的最大消费市场，2019年占其全球市场份额的22.99％，其次是韩国，中国，日本，分别占2019年的市场份额的13.97％，16.21％和16.45％。从2020年到2026年，中国的销量预计将以7.94％的复合年增长率增长。

    为了满足不断变化的技术要求，CMP泥浆过滤器制造商需要注意技术创新。未来，高性能和高耐用性将成为CMP泥浆过滤器的技术趋势。
市场不仅受价格影响，还受产品性能影响。领先的公司具有以下优势：性能更好，产品种类更丰富，技术更好，售后服务无懈可击。因此，它们占据了高端市场的大部分市场份额。



     全球与中国CMP浆料过滤器的发展现状及未来发展趋势，分别从生产和消费的角度分析CMP浆料过滤器的主要生产地区、主要消费地区以及主要的生产商。重点分析全球与中国的主要厂商产品特点、产品产品类型、不同产品类型产品的价格、产量、产值及全球和中国主要生产商的市场份额。

主要生产商包括：

    Entegris

    Pall

    Cobetter

按照不同产品类型，包括如下几个类别：

    小于10nm尺寸

    14-22nm尺寸

    28-90nm尺寸

    大于 90nm尺寸

按照不同应用，主要包括如下几个方面：

    300毫米晶圆

    200毫米晶圆

    其他

重点关注如下几个地区:

    北美

    欧洲

    日本

    东南亚

    印度

    中国

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